Вольфрамовый лист 10х1000х1500 мм В-МП в Красноярске

Толщина 0.05 мм оптимальна для фольги, используемой в качестве источника для вакуумного испарения. Тонкий лист обеспечивает быстрый и равномерный нагрев, эффективное испарение вольфрама для создания тонких пленок, а также минимальную термическую инерцию системы.

Для предотвращения химического взаимодействия листа ВД с бором при 1400°С необходимо использовать диффузионные барьерные покрытия. Вольфрам при высоких температурах активно реагирует с бором, образуя стабильные бориды, что может изменить свойства или разрушить компонент.

Избирательную коррозию вольфрамового листа могут вызвать горячие концентрированные окислительные кислоты (азотная, серная), галогены (хлор, фтор, йод) при повышенных температурах, а также расплавленные щелочи. Эти среды способствуют образованию растворимых или летучих соединений вольфрама.

Поверхностная обработка, такая как полировка или травление, критически влияет на применение листа ВР-27ВП в качестве подложки. Она обеспечивает необходимую чистоту, плоскостность и шероховатость поверхности для равномерного осаждения пленок и адгезии, что важно для полупроводниковой и оптической промышленности.

Устойчивость вольфрамового листа к воздействию серной кислоты с концентрацией 98% при нагреве низкая. Горячая концентрированная серная кислота является сильным окислителем и вызывает активную коррозию вольфрама, образуя вольфрамовую кислоту или сульфаты.

Лист ВР-20 демонстрирует высокую стойкость к длительному контакту с расплавленной медью. Вольфрам и сплавы с рением имеют крайне низкую растворимость в меди, что минимизирует эрозию и диффузию, обеспечивая стабильность материала в таких условиях.

Лист ВР-20 превосходно сохраняет свои свойства в атмосфере аргона при экстремальных температурах до 2800°С. Аргон является инертным газом, предотвращая окисление и химические реакции, что позволяет материалу сохранять свою прочность и стабильность структуры.